リコー電子デバイスは、製品の提供および事業所での取り組みにおいて、地球環境を大切にすると共に、環境保全の積極的な活動を行います。
1997年6月4日 | やしろ工場認証取得 |
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1997年11月28日 | やしろ工場、池田事業所、併せて統一システムを構築し、財団法人日本品質保証機構(JQA)から拡大認証を取得しました。 |
2000年6月23日 | 品川、新横浜の設計部門も含めた、拡大及び更新審査を受け認証取得 |
2007年2月9日 | リコー統合認証 |
2019年12月20日 | リコー統合認証から当社個別認証へ移行 |
認証機関 | 財団法人 日本品質保証機構 |
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登録番号 | JQA-E-90038 |
SDGs
半導体製造は、プロセスが200~300工程におよび、各工程で製品 (シリコンウェハ) に処理を施すたびに不純物を洗い流すため、水を大量に必要とします。半導体製造を行うやしろ工場では用水の徹底した有効活用を目指し、1989年の操業当時から高効率の「用水リサイクルシステム」を導入しています。
ウェハの処理は、クリーンルームで行われ、その工程では超純水が使用されます。水道からの水はいったん純水製造システムに取り込まれ、一次処理、二次処理を経て超純水となって生産ラインに供給されます。生産工程で使用 (主にウェハの洗浄) した水は、不純物の含有率によって3つの等級に分けて排水ラインで回収されます。
不純物が比較的少ないレベル1の排水は、純水回収系処理システムを通したあと、純水製造システム側へ戻され、再び超純水として使用されます。レベル2の排水は、純水回収系処理システムを通すことにより、純水(超純水よりグレードの低い水)として再生され、ボイラー用水、冷凍機の冷却水などに利用されます。レベル3の排水は廃液処理システムによって中和処理等を行った後、下水道放流されています。
また、この「用水リサイクルシステム」で処理されるウェハ洗浄用水以外の水についても、リサイクル活動を行っています。
例えば、貫流ボイラーの溶存酸素測定用のサンプル水は従来、測定後は放流していましたが、この水をボイラー用水として再利用できるようにしました。その際、各装置の位置を変更することで、落差を利用して給水タンクへ戻し、ポンプ等のエネルギーを使用することなく、用水の再利用が可能になりました。
これらの活動により、用水全体の約65.6%をリサイクル水でまかなっており、年間に換算すると約337千m3 (2018年度実績) の用水使用量の削減を実現しています。
SDGs
半導体の生産では製造過程で窒素を大量に消費します。
窒素は非常に安定した不活性ガスで、ウエハ処理時の希釈ガスとして、また特殊ガスを安全に取り扱うためのパージガスとして使用しています。
オンサイト窒素発生装置を導入するまでは、タンクローリーで液体窒素を運んでもらい、やしろ工場内でガス化して使用していましたが、輸送のための液化時に掛かるエネルギー消費や輸送時の燃料消費などによる環境負荷の低減を目的に2009年に空気中から窒素だけを精製するオンサイト窒素発生装置を導入しました。
窒素は空気に最も多く含まれる気体で、その濃度は78%になります。
オンサイト窒素発生装置は空気を圧縮し、不純物を除去した後、熱交換器で-180°C付近まで冷却し、精留塔内で酸素 (-183°C) と窒素 (-196°C) の沸点の違いを利用した精留分離 (深冷分離方式) により高純度な窒素を精製します。
導入に伴い、サイト内のCO2は増加しますが、サイト外での液体窒素の製造、輸送による環境負荷が低減するため、窒素購入におけるライフサイクルCO2を3,360 t-CO2/年削減することができました。
更に、液体窒素の製造、輸送コストが削減されたため、窒素購入価格を低減することができ、災害時などの不測の事態による窒素供給不安のリスクも解消され、生産を維持・継続するレベルが向上し、お客様の安心・安全操業にも貢献しています。
日清紡グループは、企業理念「挑戦と変革。地球と人びとの未来を創る。」の具現化を通して、企業価値の向上を目指しています。環境保全、省エネルギー、代替エネルギーを実現する新製品やシステム提案はもとより、環境破壊や気候変動による災害など人間社会が直面する課題に対してもソリューションを提供し、「環境・エネルギーカンパニー」グループとして、安全かつ安心な暮らしに貢献していきます。